濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形（xíng）平麵靶材、圓形平麵靶材、圓柱（zhù）靶材

濺射靶（bǎ）材按成分分類：單質金屬靶材、合金靶（bǎ）材、陶（táo）瓷靶材

平麵靶材利用（yòng）率比較低（dī），隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶（bǎ）材冷卻：靶功率越大，濺（jiàn）射速度（dù）越大；靶（bǎ）允許的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用（yòng）直接水冷，允許（xǔ）的靶功率高。

2. 靶背板（bǎn） target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷（cí）等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導（dǎo）熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封（fēng）。 

結構： 

空心或者實心（xīn）結構---磁鋼不泡或泡在冷（lěng）水（shuǐ）中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太（tài）薄，容易變（biàn）形。