用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需（xū）鍍（dù）上（shàng）一層SiO2擴散（sàn）隔離層，該SiO2膜就（jiù）是采用射頻濺射。
通常在濺射過程中（zhōng）輝（huī）光放電中的（de）離（lí）子撞擊到陰極時，會與陰極的電子（zǐ）中和，是的濺射現象可以繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有電子中和，
正電荷一直累積，使與（yǔ）後來的離子排斥，這會造成取代（dài）直流電源，使可解決（jué）此離子撞擊現象的停頓。
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