什麽是PVD 技（jì）術 

PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到（dào）基材表麵上的過程。

它的（de）作用是（shì）可（kě）以使某些有（yǒu）特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐（nài）腐性等）的微粒噴塗在性能較低的（de）母（mǔ）體上，使得母體具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍（dù） 、離子鍍（空（kōng）心陰（yīn）極離子鍍、熱陰極（jí）離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離（lí）子鍍、射頻離子鍍、直流放（fàng）電離子鍍）。

PVD 技（jì）術是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技（jì）術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低（dī）、可鍍材料廣泛等特點（diǎn）.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場下的輝光反應，亦是一個高淨化（huà）處理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦（tài）是金屬中（zhōng）最與人體皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本（běn）身具備純淨的環保性能。