微信掃一掃 關注国产精品无码av片在线观看播最新動態！磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術（shù）之一，磁控濺射鍍膜技術正（zhèng）廣泛應用於透明導電膜（mó）、光（guāng）學膜、超（chāo）硬膜、
抗腐蝕膜（mó）、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防（fáng）和（hé）國民經濟生產中的作用和地（dì）位日益強（qiáng）大。
解決這（zhè）些實際問題的方法是對（duì）涉及濺射沉積過程的全部因（yīn）素進行整體的優化設（shè）計，建立一個濺射鍍（dù）膜的綜合設計（jì）係統。
薄膜厚度均勻（yún）性是檢驗（yàn）濺射（shè）沉積過程的最重要參數之一，因此（cǐ）對膜厚（hòu）均勻性綜合設計（jì）的研究具（jù）有重要的理論和應用價值。
磁控濺射技術發展（zhǎn）過程中各項（xiàng）技術的突破一般集（jí）中在等離子體的產生以（yǐ）及對等離子體進行的控製等方麵。
通過對（duì）電磁場、溫度場和空間（jiān）不同種類粒子分布參數的控製，使膜層質量和屬性滿（mǎn）足各行業的要求。
膜厚均（jun1）勻性與（yǔ）磁控濺射（shè）靶（bǎ）的工作狀態（tài）息息相關，如靶的刻蝕狀態，靶的（de）電（diàn）磁場設計等，
因此，為保證膜厚均勻性，國外的薄膜製備公司或（huò）鍍膜設（shè）備製造公司都有各自的（de）關於鍍膜設備(包括核心部件“靶”)的整套設計方案。