濺射靶材（cái）具有高純度、高密度（dù）、多組元、晶粒均（jun1）勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標（biāo）材（cái）料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄（báo）膜。

由於高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在（zài）高電壓、高（gāo）真（zhēn）空的機台環境（jìng）內（nèi）完成濺射過程。

超（chāo）高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要（yào）起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。