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真空蒸鍍之工藝對(duì)比

作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:183378
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔點金屬做成(chéng)適當(dāng)形狀蒸發源(yuán),電流通過直接加熱。 


B. 優點:結構簡(jiǎn)單(dān)、造價便宜、使用可(kě)靠


C. 缺點(diǎn):所能到到的(de)最高溫(wēn)度有限,加熱器壽命較(jiào)短


D. 適合(hé):熔(róng)點不太高,尤其(qí)對膜層質量要求不大高的大批量生產。 


 2. 電子束蒸發源蒸鍍發 


A. 蒸(zhēng)發材(cái)料放入冷水鉗(qián)鍋中,利用電子束加熱


B. 優點:獲得更大能量密度(dù),使(shǐ)高熔點材料蒸發且速度快,膜的純度較高(gāo),熱效率高。


C. 分類:環形槍(qiāng),直槍,e型槍和空心陰(yīn)極槍等幾種。


D. 適合:高熔點,純度要求(qiú)高的(de)材料。
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