真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工技術，是表麵（miàn）工程技術領域的重要組成部分；

起源（yuán）於20世（shì）紀30年代，直到80年代（dài）才形成工業化大規模生產，廣泛應用於電子、裝潢裝飾、通訊、照明等工（gōng）業領域。

是在真空環境下，金屬或金屬氧化（huà）物變成氣態原子或分子，沉積在金屬或非金屬表麵（miàn）而形成（chéng）。 

被譽為最具發展前途的重要技術之一，並在高技術（shù）產業化的發展中展現出誘人的市場前景。

真空的作用

1. 減少（shǎo）蒸發分子跟（gēn）殘餘（yú）氣（qì）體分子的（de）碰撞

2. 抑製它們（men）之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙（wū）染小、成本低（dī）、裝（zhuāng）飾（shì）效果好、金屬感強。