膜厚的量測方（fāng）法大致上可分為原位量測、離位量測兩（liǎng）類 

原位星測係指鍍膜進行中量測，普遍使（shǐ）用在物理氣相沉積，如微天平、光學、電阻（zǔ）量測。

離位（wèi）量測係指鍍膜完成後量（liàng）測，對（duì）電鍍膜（mó）的行（háng）使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如（rú）質量、剖麵計、掃描式電子（zǐ）顯微鏡。