真空鍍膜設備多弧離子鍍（dù）膜上（shàng）的（de）創新方法，所謂多弧離子鍍膜就（jiù）是置待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍（dù）膜機多弧離子（zǐ）鍍膜采用一（yī）定方法加熱（rè）待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行（háng）濺射到被鍍基板表麵凝（níng）聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件（jiàn）下成膜有很多優點，可減少蒸發（fā）材（cái）料的原子（zǐ）、分子在飛（fēi）向基板過程中於分子的碰撞，

減少氣體中的活（huó）性分子和蒸發源材料間的（de）化學反應（yīng）（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉（chén）積速率和與（yǔ）基板的附著（zhe）力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免（miǎn）了傳統表麵處理的（de）不足，且各項技術指標都優於傳統工（gōng）藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領（lǐng）域（yù）有廣泛應（yīng）用。

催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪些創新（xīn）？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅（jǐn）為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分（fèn）之（zhī）一，可反複利用，大大降（jiàng）低了成本（běn）。