無（wú）論監控儀精度怎樣，它也隻能控製真空室裏（lǐ）單點位置的膜厚，一般來講是工（gōng）件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是絕（jué）對均勻的，那麽遠離中心（xīn）位置的基片就無（wú）法得到（dào）均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所（suǒ）以（yǐ）幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸（zhēng）發源的恰當選擇可以使這些影響最小化。
　　在過去幾年中，越來越多的（de）用戶要求鍍膜係統製（zhì）造（zào）廠家提供高性能的小規格、簡便（biàn）型（xíng）光學鍍（dù）膜係統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保（bǎo）證吸水後光譜變化最小化等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規（guī）格已經在（zài）降低，而應用小規格設備進行光學（xué）鍍膜的生產也已（yǐ）經轉變成為純技術問題。因此（cǐ），選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決（jué）於對以下因素的認真考慮：對（duì）鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性（xìng）以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因（yīn）素。

下一個：如何正（zhèng）確維護鍍鋅槽液？