真空鍍膜機（jī）電化學沉積指的是用電（diàn）化學方法在（zài）金屬或非金屬製件（jiàn）表（biǎo）麵沉積一層或多層（céng）金屬鍍層或合金鍍層或複合鍍層的技術。通常是，表麵具有導電（diàn）能力的製（zhì）件，於電解質溶液中，被置於陰極，在外電流的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合離子在製件表麵，即陰極表麵發生還原反應，使金屬（shǔ）沉積在製件（jiàn）的表麵，這一過程又叫金（jīn）屬電沉積（jī），俗稱電鍍。用真空鍍膜設備電鍍的方法可（kě）以在金屬或非（fēi）金屬製件（jiàn）表麵得到功（gōng）能各異（yì）的多種鍍層，滿足在不同環境中對製件的使用要求。
　　它（tā）們涉及四大類：耐腐蝕、抗氧化；耐磨損、減摩；裝飾、美化；聲、光、磁、電的轉換，以（yǐ）及（jí）其他方麵如催化、殺菌等。內容包括單金屬鍍（dù）層、合金鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化學（xué）氧化、電化（huà）學氧化等。目前研究（jiū）方向包括：合金（jīn）電鍍、激光電（diàn）鍍、微（wēi）粒彌散複合電鍍、纖維增強複合電鍍、梯度功能複合電鍍、微弧氧化、納米電龜鍍與納米多層膜電鍍等。怎麽挑（tiāo）選市場上形形色色的真空設備?真空鍍膜機電鍍層設計的選用要在了解它們的特性、設計依據、適用（yòng）範圍、不（bú）宜（yí）或不允許使用範圍的基礎上進行，進而確定厚度（dù）係列（liè）與工藝。
　　雖然，它在表麵處理技術（shù）中的曆史較長，工藝（yì）也比（bǐ）較成熟，但（dàn）隨著現代工業和技術的飛速（sù）發展，對真空鍍膜設備電鍍層的功能性要求越來越高（gāo），如高的耐腐蝕性、抗氧化性、良好的導電性、高硬度（dù）、高的耐磨性以及（jí）某些特殊（shū）的物理、化學特性，像特殊的電學性質、磁學性質、半導體性能以及超（chāo）導（dǎo）性能等，電鍍新技術也不斷在發展。

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