真空鍍膜技術是真空應用技術的一個（gè）重要分支，它已廣泛地應用於光學、電子學（xué）、能源開發，理化儀（yí）器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科（kē）學以（yǐ）及科學研究（jiū）等領域中。真空鍍膜（mó）所采用的（de）方法主要（yào）有蒸發鍍（dù）、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真（zhēn）空鍍膜的目（mù）的是為了改變物質表麵的物理、化學性能的話，這一技術（shù）又是真空表麵處理技術中的重要組成部分，其分類如表 6 所示。現就其幾個主要應用方麵做一（yī）簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光（guāng）學玻璃或石英表麵上鍍（dù）一層（céng）或幾（jǐ）層不同物質的薄膜後，即（jí）可成為高反（fǎn）射或（huò）無反射（即增透膜）或者作任何預期比（bǐ）例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾（lǜ）色片。高反射膜從大口徑的天文望（wàng）遠鏡和各種（zhǒng）激光器開（kāi）始、一直到新型建築物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增（zēng）透膜則大量用於照相和各種激光器開始（shǐ）、一直到新型（xíng）建築物的大（dà）窗鍍膜玻璃，都很需要。增透（tòu）膜（mó）則大量用於照（zhào）相機和電視攝象機的鏡頭上。

        在電子學（xué）方麵真空鍍（dù）膜更占有極為重要（yào）的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜（mó）。作為製備電路的（de）掩膜（mó）則用到鉻膜。磁（cí）帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷（hé）耦（ǒu）合器件（ CCD ）也（yě）都（dōu）甬道各種薄膜（mó）。

        在顯示器件方麵，錄象（xiàng）磁頭（tóu）、高密度錄象帶以及平麵顯示（shì）裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯（xiǎn）示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元件（jiàn）方麵，在真空（kōng）中蒸發鎳鉻（gè），鉻或金（jīn）屬陶瓷可以製造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以（yǐ）製造電容器，蒸發硒可以得（dé）到靜電複印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造磁致伸縮的起（qǐ）聲元件（jiàn）等等。真空蒸發（fā）還可以用於製造超（chāo）導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織品金屬花紋（wén）、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用（yòng）薄（báo）膜，以及采用濺射（shè）鍍（dù）或離子鍍（dù）對刀（dāo）具、模具等製造（zào）超硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製品，如不鏽鋼薄板（bǎn）、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄（lán）杆等目前正在盛行。