磁控濺射技術自誕生以來，得到了較快的發展和較廣的應用，對其他鍍膜方（fāng）法的發展產生了很大的影響。通過大量的實踐（jiàn），国产精品无码av片在线观看播真空總結出這種技術的優缺點，如（rú）下文所示。

　　優點：
　　1.沉（chén）積（jī）速率高，襯底（dǐ）溫升低，對薄膜損（sǔn）傷小（xiǎo）；
　　2.對於大多數材料，隻要能製造出靶材，就可以實現（xiàn）濺射；
　　3.濺（jiàn）射得到的薄膜與（yǔ）基底結合良好；
　　4.濺（jiàn）射得到的薄膜純（chún）度較高，密度好，均勻（yún）性好；
　　5.結果表明，濺射工藝具有良好的重複性，在大麵積（jī）襯底上（shàng）可獲得厚度均勻（yún）的（de）薄膜；
　　6.可以準（zhǔn）確控製塗層厚度，通過改變參數來控製薄膜的粒徑；
　　7.不同的金屬、合金和氧化物可以混合，同時濺射在基體上；
　　8.易於工業化。


　　但是磁（cí）控濺射也存在一些問題
　　1.該技術所（suǒ）使用的環形磁場迫使次級電子圍繞環（huán）形磁場跳（tiào）躍。因此，由環形磁場控製的（de）區域是等離子體密度較高的區（qū）域。在該技術（shù）中，我們可以看到濺射氣（qì）體氬在（zài）這一區域發出強烈的淡藍色光芒（máng），形成光暈。光暈下的靶是離子轟擊比較嚴重的部分，它會濺出一個圓形的溝槽。環形磁場是電子運（yùn）動的軌道，環形輝光和溝槽生動地表現了（le）這一點。靶材的濺射槽一旦穿透（tòu）靶材，整個靶材就會報廢，靶材利用率不（bú）高，一般低於（yú）40%；
　　2.等離子體不穩定；
　　3.由於基（jī）本的磁通量（liàng）均不能通過磁性靶，所以在靶麵附近不可能產（chǎn）生外加磁場。

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