如何掌控真空鍍膜的均（jun1）勻性
我們先來認（rèn）識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試（shì）鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍（dù）膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空（kōng）泵的（de）性能；
2、測試設備的（de）密封（fēng）性能，就是抽到極限後保壓1小時（shí）看（kàn）壓降是否達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作（zuò），檢（jiǎn）驗（yàn）其他的性能，比如傳動、加熱、絕（jué）緣等等；
4、如果有工藝保證的話（huà）就（jiù）繼續打樣並作測試。
5、所有的測（cè）試應作記錄（lù），並有記錄人（rén）簽字以及有使用部門或（huò）工程部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車（chē）燈鍍膜機（jī）原（yuán）理的不同分為很多（duō）種類，僅僅因（yīn）為都需要高（gāo）真空度而擁有統一名稱。所以（yǐ）對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也（yě）不盡相同。並且均勻性這個概念本身也（yě）會隨著鍍膜尺度（dù）和薄（báo）膜成分而有著不同的意義（yì），下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方（fāng）麵：
1、厚度上的均（jun1）勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄（báo）膜的尺度上看（也就是1/10波（bō）長作為單（dān）位，約為100A），真空鍍（dù）膜（mó）的（de）均勻性（xìng）已經相當好，可以（yǐ）輕鬆將粗糙度控製在（zài）可見光波長的1/10範圍內（nèi），也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子（zǐ）層尺度上的均（jun1）勻度，也就是（shì）說要實（shí）現10A甚至1A的表（biǎo）麵平整，是現在真空鍍膜中（zhōng）主要的（de）技術含量與技術瓶（píng）頸（jǐng）所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那（nà）麽實際表（biǎo）麵（miàn）的組分並不是（shì）SiTiO3，而可能是其他的比（bǐ）例，鍍的膜（mó）並非是想要的膜（mó）的化學成分，這也是（shì）真（zhēn）空（kōng）鍍膜的技（jì）術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單（dān）晶，多晶，非晶，是真空（kōng）鍍膜技（jì）術中的熱點問題。 

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