CJ係列磁控濺（jiàn）射真空鍍（dù）膜機的（de）磁控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就是（shì）用荷能粒（lì）子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起（qǐ）物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發（fā）現了這種（zhǒng）現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電（diàn）場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具（jù）有足夠的能量（約為30ev）時，則電（diàn）離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在（zài）電（diàn）場作用下，加速飛向陰極（濺（jiàn）射靶（bǎ））並以（yǐ）高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工（gōng）藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及（jí）儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等（děng）領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的（de）鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度（dù）均勻（yún）的膜層；
2）、薄膜與基片的附著（zhe）力強。部分高能量的濺（jiàn）射原子產生不同程度的注入現象，在基片（piàn）上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的（de）偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同（tóng）的材料（liào）同時濺射製備混合（hé）膜、化合膜，還（hái）可濺射成TiN仿金（jīn）膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不（bú）會（huì）混入坩鍋加（jiā）熱器材（cái）料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無（wú）需加熱直接常（cháng）溫冷鍍成（chéng）膜，節能省電（diàn），提高產能。