離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體（tǐ）離子或被蒸發物質粒子轟擊作（zuò）用的同時，將蒸發（fā）物或反應物沉積在基片上。離子（zǐ）鍍把輝（huī）光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質（zhì）量，而且還擴大（dà）了薄膜的應用（yòng）範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一般（bān）的離子鍍有著很大（dà）的（de）區別。多（duō）弧離子鍍采用（yòng）的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放（fàng）電（diàn）進行沉積。簡單的說，多弧離子（zǐ）鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽（yáng）極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從（cóng）而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍製不鏽鋼（gāng）、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也（yě）可鍍製合金膜或（huò）化（huà）合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機主要針對大麵積五金工件鍍裝飾膜（mó）或者功能膜，適（shì）合於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼（gāng）門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真（zhēn）空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材（cái）上鍍製（zhì）各類裝飾膜層及功能膜膜層的適（shì）合設備。