一. 鍍層附著性能（néng）好 

普通真空鍍膜時，蒸發料粒子大約隻以一個（gè）電子伏特的能量向工件表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層之間，形成的界麵擴散深（shēn）度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根（gēn）頭發絲的百分（fèn）之一還（hái）要小。兩者間可以（yǐ）說幾乎沒有連（lián）接的過渡層，好似截然（rán）分開（kāi）。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後（hòu）具有（yǒu）三千到（dào）五千電子伏特的動能。如果說普（pǔ）通（tōng）真空鍍膜的粒子相當於一個（gè）氣喘籲籲的長跑運（yùn）動員（yuán），那麽離子鍍的粒子則好似乘坐（zuò）了高速火箭的乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表麵，形成一種注（zhù）入基（jī）體很（hěn）深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米（mǐ），也就是說比（bǐ）普通真空鍍膜的擴（kuò）散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因（yīn）而彼此粘附得（dé）特別牢。對離子鍍後的（de）試件作拉伸試（shì）驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨（suí）基體金（jīn）屬一起（qǐ）塑性延伸，無起皮或剝落（luò）現象發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍（dù）時，蒸（zhēng）發料粒子是以帶電離子的形式（shì）在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均（jun1）能獲得良（liáng）好鍍層（céng），這比（bǐ）普通真空鍍膜隻能在直射方向上獲（huò）得（dé）鍍層優越得多。因（yīn）此，這種（zhǒng）方法非常適合於鍍複零（líng）件上的內孔、凹槽（cáo）和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸發料粒子尤如攀登雲梯一樣（yàng），隻順梯而（ér）上；離子鍍（dù）則能（néng）均勻地繞鍍到零件的背麵和內孔中（zhōng），帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定（dìng）的航線飛抵其活（huó）動半徑範圍內的任何地（dì）方。

三. 鍍層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚（hòu）度均勻。甚至棱麵和凹槽都（dōu）可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍複（fù），由於這種工藝方法還能（néng）修補（bǔ）工（gōng）件表麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零（líng）件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理得（dé）當，工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十.