化學氣（qì）相沉積是一種製備材料的氣相生長方法，它（tā）是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣（qì）體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體表麵上沉積固態（tài）薄膜（mó）的工（gōng）藝（yì）技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱（chēng）CVD)是反應物質在氣態條件下（xià）發生化學反應，生（shēng）成（chéng）固態物質沉積在加熱的（de）固態基體表麵，進而製（zhì）得固體材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的（de）是物理氣相沉（chén）積（PVD）。