GSF係列高精密電子束蒸發光學真空(kōng)鍍膜(mó)機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:26913
GSF高精(jīng)密電(diàn)子束蒸發光學真空鍍膜機的(de)工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接利用電子束加熱,使膜材中的原子(zǐ)或分(fèn)子從表麵(miàn)汽化逸出後(hòu)入射到基片(piàn)表麵凝結成膜。電子束(shù)蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效(xiào)率高、束流密度大、蒸發速度快,製成(chéng)的薄(báo)膜純度高。
光學鍍膜設備可鍍(dù)製層(céng)數較多的短波通、長波通、增透(tòu)膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的(de)膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼(yǎn)鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物(wù)、化合物及其他高熔(róng)點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚(hòu)自動控製係統,采用(yòng)PLC與工(gōng)業電腦(nǎo)配合自主研(yán)發的PY3100係統聯合實現對整個工作過(guò)程(chéng)的全自(zì)動控製,可以實現無人值守,從(cóng)而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加(jiā)配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為複雜的光學膜係製備提供了必要(yào)的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型電子槍(qiāng),優化設計的蒸發源與工(gōng)件架之間的(de)位置關(guān)係,為精密膜係的實現(xiàn)調工了膜料(liào)蒸發分(fèn)布方麵的保障。
4)、平穩而高速(sù)旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品(pǐn)光譜曲線(xiàn)更趨於一致。
5)、適用於光學領(lǐng)域行業,大規模工業生產高端要求的廠商使(shǐ)用。
GSF高精密電子束蒸發(fā)光學真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸(cùn) | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機(jī)組 | KT500擴散泵機組 | KT630擴散泵機組(zǔ) | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源(yuán)或霍爾離子源 |
充(chōng)氣係統 | 壓強控製儀 |
控製方式 | 半自動或全自動 |
膜厚監控係統(tǒng) | 石英晶體膜厚監控係統(tǒng)、光學膜(mó)厚監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限(xiàn)真(zhēn)空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備(bèi)參數僅做參考,具體均按客戶實(shí)際工藝(yì)要求設計訂做 |